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等离子喷涂-物理气相沉积功能陶瓷涂层研究
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Updated Time：2020-10-19 16:12:20 Hits：1066
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Abstract
等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD）技术因其良好的涂层结构调控能力，在制备柱状结构热障涂层、致密陶瓷涂层方面有着非常广阔的应用前景，成为当前的研究热点。本文阐述了等离子喷涂-物理气相沉积的原理，重点介绍了采用等离子喷涂-物理气相沉积技术的几种应用场景，包括具有柱状结构的YSZ、GZO热障涂层；高致密透氧膜、环境障涂层以及特种结构的NiO功能陶瓷涂层。研究认为，PS-PVD技术可在大面积工件表面高效制备性能优异的特种功能陶瓷涂层，而其非视线沉积特点将使其在工业领域能够快速实现工程化应用，应用前景广阔。
Keywords
等离子喷涂-物理气相沉积；功能陶瓷涂层
Speaker
春明邓
广东省科学院新材料研究所 子谦邓
广东省科学院新材料研究所 牛少鹏
广东省科学院新材料研究所 琛宋
广东省科学院新材料研究所 亚鹏张
广东省科学院新材料研究所 张小锋
广东省科学院新材料研究所 毛杰
广东省科学院新材料研究所 敏刘
广东省科学院新材料研究所Submission Author
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Conference Date
Nov 13
2020
toNov 16
2020
-
Oct 31 2020
Early Bird Registration
-
Nov 05 2020
Draft paper submission deadline
-
Nov 16 2020
Registration deadline
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中国机械工程学会表面工程分会
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广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
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- 段金弟
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