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超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
ID：267
View Protection：ATTENDEE
Updated Time：2020-12-08 14:47:20
Hits：2200
Oral Presentation
Start Time：2020-11-15 09:10（0）
Duration：15min
Session：C 分会场二：第十二届全国青年表面工程论坛B »
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Abstract
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
程德 王景润 白晶莹 李思振 冯立 陈学成 郭中增
（北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com）
摘要：通过微纳刻蚀在化学镀镍层表面制备具有导电-消光性能的无机膜层，研究溶液温度、pH、持续时间、热处理参数对膜层消光性能的影响规律，并测试膜层的微观形貌、消光性能、结合力、导电性、热循环性能以及空间环境稳定性。结果表明：通过优化后的溶液温度、pH、持续时间制备的超高吸收导电消光膜层全光谱吸收率最高达到0.988；通过热处理能够提高膜层的结合力和可清洁性，热处理后导电消光膜层全光谱吸收率可以稳定达到0.97以上，膜层接触电阻＜5 mΩ，具有良好的导电性，膜层具有优异的热循环稳定性和空间环境稳定性。（北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com）
关键词: 导电；消光；膜层
备注：口头报告
报告人：程德，13601284474，chengde529@163.com
Keywords
导电；消光；膜层
Speaker
程德
工程师 北京卫星制造厂有限公司Submission Author
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Important Date
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Conference Date
Nov 13
2020
toNov 16
2020
-
Oct 31 2020
Early Bird Registration
-
Nov 05 2020
Draft paper submission deadline
-
Nov 16 2020
Registration deadline
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北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
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