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量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展
ID：275
View Protection：ATTENDEE
Updated Time：2020-12-08 14:02:00
Hits：2339
Oral Presentation
Start Time：2020-11-15 09:40（0）
Duration：15min
Session：B 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A »
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Abstract
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备工艺决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜，采用卷绕PECVD技术沉积无机层，湿法涂布工艺沉积有机层是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
Keywords
量子点膜； 高阻隔膜 ；有机/无机多层膜；卷绕PECVD
Speaker
秦丽丽
兰州空间技术物理研究所Submission Author
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Important Date
-
Conference Date
Nov 13
2020
toNov 16
2020
-
Oct 31 2020
Early Bird Registration
-
Nov 05 2020
Draft paper submission deadline
-
Nov 16 2020
Registration deadline
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中国机械工程学会表面工程分会
Organized By
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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- 段金弟
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