Presentation Details
阳极层离子源的改进及DLC涂层的制备
ID：365
View Protection：ATTENDEE
Updated Time：2020-12-08 14:39:16
Hits：2504
Oral Presentation
Start Time：2020-11-15 17:15（0）
Duration：15min
Session：B 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A »
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Abstract
阳极层离子源是用于输出气体等离子体的重要设备，在真空镀膜中用途广泛。然而，在放电的过程中，阳极层离子源的阴阳极表面会出现容易产生较严重离子沉积或溅射，产生了严重的污染，难以长期维持稳定高效的工作状态。鉴于此，本文从阳极层离子源的等离子体放电特性出发，利用等离子体仿真手段分析了电子和离子的运动轨迹，并以此对阳极层离子源进行了设备改进，大幅减小了阴阳极表面的污染。进一步利用改进的设备制备了DLC涂层，获得了厚度>50 μm，结合强度>70 N的高强度超厚DLC涂层。
Keywords
离子源,等离子体仿真,DLC涂层,设备改进
Speaker
崔岁寒
博士后 北京大学深圳研究生院Submission Author
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Important Date
-
Conference Date
Nov 13
2020
toNov 16
2020
-
Oct 31 2020
Early Bird Registration
-
Nov 05 2020
Draft paper submission deadline
-
Nov 16 2020
Registration deadline
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中国机械工程学会表面工程分会
Organized By
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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- 段金弟
- 20******@sina.com
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