两种高熵合金表面微弧氧化层的微观结构与高温抗氧化性能研究
ID:62 View Protection:ATTENDEE Updated Time:2020-10-19 12:18:30 Hits:1618 Oral Presentation

Start Time:2020-11-14 20:55(0)

Duration:15min

Session:M 分会场十二 :微弧氧化及液态等离子体电解技术论坛 » D1微弧氧化及液态等离子体电解技术11月14日晚场

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Abstract
摘要:微弧氧化可实现基体合金表面原子原位氧化,在高熵合金表面预制陶瓷质氧化物陶瓷层,以有效隔离高熵合金基体与不同介质(如氧气、腐蚀性离子等)接触,有助于改善其高温抗氧化性能。本文以AlTiNbMo0.5Ta0.5Zr和AlTiCrVZr两种难熔高熵合金为研究对象,对比研究了预制微弧氧化层的微观结构以及对高温抗氧化性能的影响。结果表明,两种高熵合金表面微弧氧化层均具有多孔特点,但所形成的氧化物比例与基体合金中元素比例并不一致,体现出竞争氧化;与未进行微弧氧化处理的高熵合金对比,在高温氧化过程中预制氧化物层能够抑制Mo或V元素的挥发,使其高温抗氧化性能得到显著提高;如何实现大厚度、高致密度与结合强度的微弧氧化层在高熵合金表面高质量制备是后期研究重点,以推动高熵合金在高温领域的推广应用。
关键词:微弧氧化;难熔高熵合金;微观结构;高温抗氧化性能



备注:口头报告
报告人:程赵辉,17802922775,yangwei_smx@163.com

Keywords
微弧氧化;难熔高熵合金;微观结构;高温抗氧化性能
Speaker
程赵辉
西安工业大学

陈建
西安工业大学

杨巍
西安工业大学

Submission Author
程赵辉 西安工业大学
陈建 西安工业大学
杨巍 西安工业大学
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    2020

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