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浅谈等离子体电解氧化过程的成膜机理
ID：66
View Protection：ATTENDEE
Updated Time：2020-12-09 15:16:02
Hits：2849
Invited speech
Start Time：2020-11-15 13:30（0）
Duration：20min
Session：M 分会场十二 ：微弧氧化及液态等离子体电解技术论坛 »
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Abstract
等离子体电解氧化是从传统的阳极氧化技术发展起来的先进表面处理技术，由于氧化膜电介击穿导致的等离子体火花放电的作用，其成膜机理和阳极氧化有显著的不同。本报告根据研究者多年的研究经验，首先，对铝、镁、锆、钛、钽等常见阀金属等离子体电解氧化的特点及涉及的物理化学过程进行了总结，探讨了其成膜机理的个性和共性，讨论电解液浓度、电参数尤其是负电流等对氧化行为的影响，对等离子体电解氧化过程的“软火花”等特殊的现象进行了描述和讨论。最后，报告讨论了近年研究者对非阀金属钢铁和铜的等离子氧化过程的研究，比较了非阀金属和阀金属成膜机理的异同。指出了等离子体电解氧化技术在阀金属和非阀金属应用面临的挑战，并展望了其发展方向。
Keywords
等离子体电解氧化；阀金属；非阀金属；成膜机理
Speaker
程英亮
教授 湖南大学材料科学与工程学院Submission Author
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Important Date
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Conference Date
Nov 13
2020
toNov 16
2020
-
Oct 31 2020
Early Bird Registration
-
Nov 05 2020
Draft paper submission deadline
-
Nov 16 2020
Registration deadline
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北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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