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顶部电离层中纬槽高度变化的统计研究
ID：106
View Protection：ATTENDEE
Updated Time：2021-06-14 09:14:45
Hits：2387
Oral Presentation
Start Time：2021-07-11 08:57（Asia/Shanghai）
Duration：12min
Session：S9B 9B、行星科学与空间物理 »
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Abstract
电离层中纬槽是频繁出现在中高纬度电离层的一种电子密度耗空现象，其会产生较大的电子密度梯度，会显著地影响该区域的无线电通信。以往中纬槽相关研究主要集中在电离层峰值高度附近，而对中纬槽特性相关高度的变化研究较少，特别是在顶部电离层高度处的研究缺乏。基于此，我们利用两颗不同高度的低轨卫星500km高度的TSX卫星和800km高度处的METOP-A卫星的顶部电离层TEC数据，系统研究对比了不同高度的中纬槽变化特性。研究表明不同高度处中纬槽特征包括出现率、出现位置和地磁活动依赖都表现出较大差异。基于该结果还探讨了引起中纬槽的高度差异的物理机制。
Keywords
顶部电离层,中纬槽
Speaker
刘熠
中国科学技术大学Submission Author
All Comments
Important Date
-
Conference Date
Jul 09
2021
toJul 11
2021
-
May 30 2021
Abstract Submission Deadline
-
May 30 2021
Draft paper submission deadline
-
May 30 2021
Early Bird Registration
-
Jul 10 2021
Registration deadline
-
Jul 11 2021
Contribution Submission Deadline
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中国科学院地球化学研究所
贵州大学
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