第十六届全国薄膜技术学术研讨会

99 / 2023-11-15 16:37:05

非平衡磁控溅射镀膜机磁场优化设计——铝硅靶

磁控溅射； 铝硅靶； 磁场优化

目的：铝硅靶材是一种新型磁控溅射材料，针对铝硅靶材的磁场优化可提升靶材的利用率。方法：刻蚀靶材至失效，测量其刻蚀截面。根据截面数据，调整磁极的位置及强度，使用Maxwell软件进行靶面及特征刻蚀位置深度方向磁场计算。结果：降低磁极8强度至4000Gs，靶面强弱刻蚀区峰值强度减小80Gs，弱刻蚀区强度增强50Gs。计算特征刻蚀位置深度方向磁场，磁极8调整至4000Gs时，弱刻蚀区磁场曲线增强。结论：该实验验证了降低磁极8强度至4000Gs可有效调控靶面磁场及深度方向磁场，并使原弱刻蚀区刻蚀效果增强，将靶材利用率从29.4%提升至38%左右。