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不同脉冲电压对管内沉积类金刚石薄膜性能的影响
ID：21 View Protection：ATTENDEE Updated Time：2021-11-24 08:52:34 Hits：487 Oral Presentation

Start Time：Pending（Asia/Shanghai）

Duration：Pending

Session：No Session »

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Abstract
采用脉冲复合射频放电技术进行管内放电与膜层的制备，将射频与脉冲两种不同的放电模式通过自主设计的 P/RF 匹配电路网络进行连接，进行解决管内壁镀膜中所遇到的问题。研究脉冲电压管内空心阴极辉光放电特性及膜层的影响。在Ar+TMS+C2H2 混合气氛下，脉冲电压分别采用 600 V、700 V、800 V、900 V、1000 V。在相同的气压条件下，脉冲电压的越高，脉冲电流相应的也越大，在气压固定为 6 Pa 时，脉冲电压1000 V 时电流达到最高为55 A，说明气压增加对管内等离子体密度的增大有较大的影响，有利于提高膜层的沉积效率和改善膜层的质量。不同的脉冲放电电流得到的ID/IG值不同，并且在管内不同位置的膜层 ID/IG 值也不同，呈现出在靠近进气口附近的沉积膜层 ID/IG值较小。管内不同位置膜层的厚度均在 10 μm 以上，在靠近进气口位置的膜层厚度达到了 12μm。
 
Keywords
管道，脉冲，射频，类金刚石薄膜
Speaker
靳朋礼
哈尔滨工业大学

Submission Author
靳朋礼 哈尔滨工业大学
田修波 哈尔滨工业大学
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Important Date

  • Conference Date

    Dec 15

    2023

    to

    Dec 17

    2023

  • Nov 30 2023

    Draft paper submission deadline

  • Mar 08 2024

    Registration deadline

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