NiOXAg空穴传输层对晶硅异质结电池性能的影响
ID:3 View Protection:ATTENDEE Updated Time:2021-10-21 15:42:44 Hits:540 Oral Presentation

Start Time:Pending(Asia/Shanghai)

Duration:Pending

Session:No Session »

No files

Abstract
由非晶硅(a-Si)与单晶硅(c-Si)构成的异质结(heterojunction technology, HJT)太阳电池凭借着效率高、低光衰、温度系数低、弱光响应高等巨大优势,一经面世就吸引了大量研究者的目光。然而传统的HJT电池使用非晶硅作为发射极,其光学带隙比较窄,存在光学损耗,因此寻找新型宽带隙材料替代非晶硅对提高器件效率具有重大意义。在此研究基础之上,本课题组设计出化合物晶硅异质结电池HCT (Heterojunction with Compound Thin-layer),用宽带隙化合物NiOx替代非晶硅,在增大带隙的同时还能获得更好的透光性,从而有效提升短路电流[1-2]。本课题组通过AFORS-HET仿真探究了掺Ag对NiOx光学电学特性及器件输出特性的影响,并且以磁控溅射法制备NiOx:Ag空穴传输层,制备了Al栅/ITO/NiOx:Ag/SiOx/c-Si(n)/SiOx/Al这种结构的单面异质结太阳电池,研究掺银对器件性能的影响。研究发现当NiOx薄膜方阻越低时,器件的输出特性越好,并且掺Ag会提高NiOx薄膜的受主浓度,减小NiOx侧面势垒宽度,提升载流子的隧穿效应,从而获得更低电阻率的薄膜。
 
Keywords
HCT太阳电池;NiOx薄膜;掺银
Speaker
杨旭东
南开大学

Submission Author
刘玮 南开大学光电子薄膜与器件研究所
杨旭东 南开大学
Submit Comment
Verify Code Change Another
All Comments
Important Date
  • Conference Date

    Dec 15

    2023

    to

    Dec 17

    2023

  • Nov 30 2023

    Draft paper submission deadline

  • Mar 08 2024

    Registration deadline

Sponsored By
中国真空学会薄膜专业委员会
Contact Information
Previous Conferences