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钛合金共植入TiN涂层的Ag/Ta比例可控，增强成骨和抗菌反应
ID：58 View Protection：ATTENDEE Updated Time：2021-11-24 09:15:33 Hits：596 Oral Presentation

Start Time：Pending（Asia/Shanghai）

Duration：Pending

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Abstract
将银(Ag)和钽(Ta)离子共注入到医用钛合金(Ti-6Al-4V)的氮化钛(TiN)薄膜中，通过控制注入时间和剂量，实现控制不同比例Ag/Ta (4:1, 2:1, 1:1)，并研究不同比例Ag/Ta对TiN薄膜的细胞相容性和抗菌性能的影响规律。结果表明，Ag+和Ta+共注入的Ag/Ta-TiN样品对医用Ti-6Al-4V中毒性离子(V4+和Al3+)的释放有明显的抑制作用。Ag/Ta比为1:1时，耐腐蚀性能最高，成骨细胞生长最好，抗菌性能突出，体内无毒。Ag/Ta(4:1)-TiN的抑菌率最高，为95.7%。这些结果表明，银和钽共注入加上TiN涂层可以提高Ti-6Al-4V钛合金的细胞相容性和抗菌性能，而合适的Ag/Ta比例是改性的关键因素之一。
 
Keywords
Ag/Ta离子共注入,抗菌性,生物性能
Speaker
宋喜多
学生 天津师范大学

Submission Author
宋喜多 天津师范大学
赵梦鲤 天津师范大学
李德军 天津师范大学
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Important Date

  • Conference Date

    Dec 15

    2023

    to

    Dec 17

    2023

  • Nov 30 2023

    Draft paper submission deadline

  • Mar 08 2024

    Registration deadline

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