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含有缺陷的Graphene/ h-BN多晶异质膜的摩擦学特性
ID：190 View Protection：ATTENDEE Updated Time：2023-04-09 21:20:10 Hits：2821 Oral Presentation

Start Time：2023-04-23 14:10（Asia/Shanghai）

Duration：15min

Session：Y2 第十四届全国青年表面工程论坛二 » M2下午场

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Abstract
由Graphene和h-BN组成的异质膜具有良好的减摩、耐磨和耐腐蚀性能，这为高湿、高盐雾的海洋环境下的减摩耐腐涂层设计提供了一种有效解决方案。由于二维材料制造方法的不成熟，多晶结构在二维材料中不可避免，并显著影响材料的摩擦学性能。本研究采用分子动力学方法，研究了不同晶界角度异质膜的摩擦学特性（摩擦和磨损），揭示了晶界对异质膜摩擦学特性的影响机理，分析了晶界处的点缺陷对异质膜强度的影响规律。结果表明: 异质膜具有优异的减摩效果，晶界六七元环处的应力集中现象会降低异质膜的磨损强度，应力集中现象随晶界角度增大而逐渐消失，去除晶界处拉应力较大的危险原子有助于提高异质膜耐磨强度。本研究从原子尺度揭示了Graphene/h-BN异质结构薄膜的摩擦学特性，为多晶异质涂层的制造和应用具有指导意义。
Keywords
多晶石墨烯，异质结构，摩擦，磨损
Speaker
张玉涛
中国海洋大学

Submission Author
张玉涛 中国海洋大学工程学院，机电工程系，山东 青岛 266000
赵波 中山大学，海洋工程与技术学院，广东 珠海 518000
范语嫣 中国海洋大学工程学院，机电工程系，山东 青岛 266000
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  • Conference Date

    Apr 21

    2023

    to

    Apr 23

    2023

  • Apr 20 2023

    Draft paper submission deadline

  • Apr 23 2023

    Registration deadline

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武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室
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