磁控溅射W/MoS2层状复合结构的制备及其摩擦学机制研究
ID:215 View Protection:ATTENDEE Updated Time:2025-04-24 15:24:45 Hits:1425 Oral Presentation

Start Time:2025-05-11 11:40(Asia/Shanghai)

Duration:15min

Session:E2 摩擦学表面工程论坛二 » E21上午场

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Abstract
结构超润滑对于能源消耗控制和碳中和具有深远的意义。然而,由于接触面积有限、环境要求严格以及使用寿命短等问题,其实际应用一直受到限制。在这里,我们提出界面能调控和二维材料润滑协同作用的摩擦损伤抑制新策略。本研究采用磁控溅射技术制备了钨(W)与二硫化钼(MoS2)交替沉积的层状复合结构涂层,系统探究了其微观结构及摩擦学行为。研究表明,相较于Al基体、W涂层、MoS2涂层,W/MoS2层状复合结构涂层具有良好的减摩耐磨及抗粘附的特性。此外,我们还研究了不同调制周期层状复合涂层的磨损机理,发现W-50 nm/MoS2-100 nm层状复合涂层的磨损机理为在摩擦过程中纳米氧化物颗粒之间形成非公度接触,贡献了优异的润滑性;W-360 nm/MoS2-900 nm层状复合涂层的磨损机制为逐层剥落磨损。上述发现揭示了MoS2基层状复合结构摩擦诱导变形新机制,开发高性能固体润滑涂层提供了新的结构设计策略。
 
Keywords
磁控溅射;W/MoS2层状复合结构;摩擦学
Speaker
陈兆硕
南京理工大学

Submission Author
陈兆硕 南京理工大学
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  • Conference Date

    May 09

    2025

    to

    May 11

    2025

  • May 11 2025

    Registration deadline

  • May 14 2025

    Abstract Submission Deadline

  • May 14 2025

    Draft paper submission deadline

  • Aug 07 2025

    Contribution Submission Deadline

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