ArH2等离子喷涂温度场光谱诊断与粒子沉积动力学数值研究
ID:428 View Protection:ATTENDEE Updated Time:2025-04-22 09:11:07 Hits:1581 Poster Presentation

Start Time:2025-05-10 13:30(Asia/Shanghai)

Duration:15min

Session:V 成果展及posters » V1posters

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Abstract
针对Ar/H2等离子喷涂工艺中射流温度场表征与粒子沉积调控的需求,本研究基于离散相模型(DPM)构建等离子喷涂多物理场耦合数值模型,系统探究射流温度场演化规律及粒子沉积动力学行为。通过实验验证与数值模拟相结合的方法,揭示等离子体射流热力学特性与涂层沉积过程的动态耦合机制。研究采用光学发射光谱(OSE)双线比例法诊断等离子体轴向温度分布,实验测得400 A与500A电流下喷嘴出口处射流温度分别为5334.39 K和6510.2 K,并通过红外测温技术实时监测基体温度分布。数值模型创新引入气体-颗粒双向耦合算法,建立涵盖Rosin-Rammler粒径分布、壁面薄膜沉积及随机库恩克碰撞模型的DPM全流程计算体系。模拟结果表明,射流核心区温度场模拟误差控制在12%以内,YSZ粒子最高速度达181 m/s,熔融温度达3761 K;移动喷涂工况下基体表面最高温度累积5 s后可达772.2 K,与实验测量结果偏差在10%以内。
Keywords
等离子喷涂,计算流体力学模拟,离散相模型,光谱诊断,粒子沉积动力学
Speaker
王奥奇
研究生 西安交通大学

Submission Author
王奥奇 西安交通大学
刘森辉 西安交通大学
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Important Date
  • Conference Date

    May 09

    2025

    to

    May 11

    2025

  • May 11 2025

    Registration deadline

  • May 14 2025

    Abstract Submission Deadline

  • May 14 2025

    Draft paper submission deadline

  • Aug 07 2025

    Contribution Submission Deadline

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