DBD等离子体清洗技术应用研究
ID:87 View Protection:ATTENDEE Updated Time:2025-09-11 22:26:44 Hits:493 Poster Presentation

Start Time:2025-09-20 14:00(Asia/Shanghai)

Duration:20min

Session:S8 张贴报告 » S8张贴报告

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Abstract
随着半导体制造工艺中对洁净性能要求越来越高,等离子体清洗技术得到了广泛的应用。等离子体清洗技术具有工艺高效、无残留、环保的优点,DBD等离子体清洗技术因大面积稳定放电优势,应用于半导体元器件的清洗。本文基于国内外相关研究,对等离子体清洗技术原理、清洗机理进行解读,为半导体制造工艺过程中的DBD等离子体清洗装置设计提供参考。
 
Keywords
半导体 DBD等离子体清洗 工程应用 放电模式
Speaker
SunYurong
工程师 苏州天华新能源科技股份有限公司

Submission Author
sunyurong 苏州天华新能源科技股份有限公司
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Important Date
  • Conference Date

    Sep 19

    2025

    to

    Sep 22

    2025

  • Sep 09 2025

    Draft paper submission deadline

  • Sep 22 2025

    Registration deadline

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