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阵列式空心阴极等离子体源低温碳离子注渗技术研究
ID：327 View Protection：ATTENDEE Updated Time：2026-03-31 22:01:29 Hits：126 Oral Presentation

Start Time：2026-04-28 09:35（Asia/Shanghai）

Duration：15min

Session：H 材料表层强化和改性技术论坛 » H1H上午场

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Abstract
为了拓展奥氏体不锈钢低温(<450℃)渗碳技术的工业应用，亟待突破高密度、低成本的等离子体源技术，促进低温高效渗碳技术与装备的改进和发展。本研究在常规活性屏等离子体源渗碳技术基础上，发展了一种新的低温渗碳技术—阵列式空心阴极等离子体源碳离子注渗技术，所采用的空心阴极等离子体源由空间分布的石墨空心阴极阵列构成，在高功率脉冲作用下，实现低气压(<70 Pa)的CH4和H2混合气体放电，形成高密度、空间均匀的等离子体，通过试样上施加非扰动等离子体源放电的低负偏压(<250 V)，在试样周围建立均匀的高碳势场和温度场，满足奥氏体不锈钢低温渗碳需求，获得具有耐磨抗蚀复合作用的改性效果。
 
Keywords
等离子体,空心阴极,低温,碳离子注渗
Speaker
刘昊一
讲师 沈阳理工大学

Submission Author
刘昊一 沈阳理工大学
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Important Date

  • Conference Date

    Aug 10

    2026

    to

    Aug 12

    2026

  • Apr 26 2026

    Draft paper submission deadline

  • Apr 28 2026

    Registration deadline

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